Полые корундовые микросферы в плазменном напылении
Использование полых корундовых микросфер (англ. Hollow Corundum Microspheres, далее – HCM) в плазменном напыление показывает их повышенные характеристики
по сравнению с традиционными порошками из оксида алюминия – электрокорундом и ГОО:
-
высокий коэффициент использования материала (КИМ);
-
возможность получать высокоплотные или высокопористые покрытия;
-
прекрасная текучесть (без сводообразования) в загрузочном бункере;
-
высокая микротвердость покрытия.
Полые корундовые микросферы имеют относительно тонкую стенку и при попадании в струю
плазмы намного быстрее прогреваются до расплавленного состояния в отличии от
электрокорунда.
В зависимости от скорости полета частиц в плазменном потоке можно получать покрытия с разной пористостью.
При относительно низких скоростях напыления (газотермическое) удается достичь следующих показателей:
-
Коэффициент использования материала (КИМ) для НСМ – 34% (у аналога 18%);
-
Общая пористость покрытия – 34% (у аналога 19%);
-
Микротвердость HV у покрытия из НСМ – 800-1000 кгс/мм2 (у аналога 1100-1400 кгс/мм2).
При высоких скоростях напыления, например, высокоскоростное газопламенное напыление (HVOF) или детонационном, возможно получать низкопористые
покрытия за счет полного схлопывания стенок полой корундовой микросферы и высокий коэффициент использования материала (КИМ) для НСМ – 51%
(у аналога, электрокорунд – 25-30%).
Детонационное напыление |
Электрокорунд |
Полые корундовые микросферы |
|
|
Расчетная пористость покрытия 3,9% |
Расчетная пористость покрытия 0,3% |
Микротвердость покрытия, HV |
1500 ± 300 |
1660 ± 250 |